性质的区别
1、光学镀膜是指在光学材质表面镀金属或电介质膜的过程。光学材料表面涂覆的目的是减少或增加反射、光束分离、分色、滤波、极化等。常用的镀膜方法有种物理镀膜和化学镀膜。
2、真空镀膜是一种在高真空条件下加热金属或非金属材料，使其在镀件表面蒸发冷凝，形成薄膜的方法。对异体，吸血鬼，氯化铬涂层，等等。
镀膜原理的区别
1、真空镀膜是一种基于真空技术的新技术，它采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控制，为科学研究和实际生产提供新的工艺。简单地说，是一种在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物以使其凝固并沉积在被涂层基体上的方法。
2、光干涉在薄膜光学里是十分重要的。光学薄膜技术常用的方法是真空溅射法在玻璃基板上沉积薄膜。它通常用于控制入射光束在玻璃基板上的反射率和透过率，以满足不同的需要。
近年来激光技术的发展，对镀膜反射率和透射率提出了更高的要求，促进了多层高反射膜和宽带抗反射膜的发展。在很多应用中，采用高反射膜制作了偏振反射膜、分色膜、冷光膜和干涉滤光片。
方法和材料的区别
1、真空镀膜的方法材料：
主要结果如下：真空蒸发：需要涂覆的基材被清洗并放置在涂层室中。抽运后，薄膜材料被加热到高温，蒸汽达到13.3Pa左右，蒸汽分子飞到基片表面形成薄膜。
阴极溅射镀：将待镀基板放置在阴极对面，将惰性气体（如氩）通入真空室，保持压力在1.33～13.3pa，然后将阴极接至2000V直流电源，以激发辉光放电。正氩离子撞击阴极，使阴极发射原子，溅射的原子穿过阴极。过惰性气体沉积在基底上形成薄膜。
化学气相沉积：薄膜的沉积是通过选择金属或有机化合物的热分解得到的。
离子镀：离子镀本质上是真空蒸发镀和阴极溅射镀的有机结合，具有两种工艺特点。
2、光学镀膜方法材料
氟化镁：无色四方粉末，纯度高。用它制备的光学涂层可以提高透射率而不产生断裂点。
二氧化硅：无色透明晶体，硬度高，熔点高。二氧化硅纯度高，可用于制备高质量的Si02涂层。蒸发状态良好，无塌陷点。根据使用要求，可分为紫外线、红外线和可见光。
氧化锆：白色重结晶状态，折射率高，耐高温，化学性能稳定，纯度高。它可用于制备高质量的氧化锆涂层而不产生断裂点。
